Why? 소재가 반도체 생산성 및 원가 경쟁력 향상에 큰 역할을 하기 때문이다.

"과거 소재는 공정의 특성을 개선하는 보조적인 역할에 머물러왔다. 하지만 최근 소재의 혁신이 UPH 개선 및 공정 재정비를 통한 투자비 절감 등에 큰 기여를 하며 D램과 낸드 제품의 생산성 및 원가 경쟁력을 높이는 데도 직접적인 영향을 미치고 있다. 이러한 기술력을 바탕으로 '소재 주도의 통합 혁신'을 이루는 것이 목표이다"

길덕신 SK하이닉스 소재개발 담당 부사장은 13일 공개된 SK하이닉스 뉴스룸 인터뷰에서 반도체 산업의 기술 혁신 비전에 대해 이같이 말했다.

길 부사장은 2024 임원 인사에서 신설된 '기반기술센터' 수석 연구위원으로 승진했다. 길 부사장은 1999년 SK하이닉스 입사 후 '소재 혁신 외길'을 걸어왔다.

현재 길 부사장은 선행 기술 개발 및 제조 과정에서 쓰이는 소재 개발을 총괄하면서 연구 개발을 통합적으로 지원·관리하는 역할을 맡고 있다. 그는 "앞으로 신규 기술을 개발해 원가 경쟁력을 높이고, 소재 수급 관련 리스크에 선제적으로 대응할 계획"이라고 밝혔다.

반도체 소재는 최근 제품 개발 및 생산 전 과정에서 기술 혁신의 키(Key)로 평가받고 있다. 원가 경쟁력 확보 및 탄소 배출 저감을 위해서도 중요성이 커지고 있다. 길 부사장은 "선행 기술과 양산 기술이 시너지를 내는 데 큰 역할을 할 수 있도록 신규 소재를 지속적으로 개발해 나갈 계획"이라고 말했다.

길 부사장은 자신의 경력 중 가장 의미 있는 성과로 'EUV PR 국산화'를 꼽았다. SK하이닉스는 과거 100% 수입에 의존해온 EUV PR을 공급받지 못해 위기를 겪은 바 있다.

이후 길 부사장은 '소재 리스크 관리 시스템'을 구축했다. 이는 모든 리스크에 대응하기 위해 소재별로 위험도를 산출하고 관리하는 시스템이다. 또 협력사와 함께 '고위험 소재 대응 상생협의체'도 운영 중이다.

길 부사장은 "각 기술 단계에서 필요로 하는 것들을 명확히 파악해 실용적이면서도 차별화된 솔루션을 적용해 나갈 계획이다. '소재 개발의 르네상스'를 이루어낼 것이다"고 말했다.

UPH Unit Per Hour, 라인에서 1시간당 생산하는 제품의 수량

EUV PR Extreme Ultraviolet Photo Resist, 극자외선 감광액: 웨이퍼에 회로 모양을 새기는 포토(노광) 공정에서 사용되는 핵심 소재

/ 포춘코리아 이세연 기자 mvdirector@fortunekorea.co.kr